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產品簡介
金靶材鍍膜磁控濺射，7寸人機界面，自動手動模式切換控制，最大功率1000w直流磁控濺射
| 品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求通氣 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺尺寸 | 50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材質 | 金 鉑 銅 銀 等 | 價格區(qū)間 | 面議 |
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 綜合 |
金靶材鍍膜磁控濺射，7寸人機界面，自動手動模式切換控制，最大功率1000w直流磁控濺射
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質及OLED等
單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。
所配電源為1000W大功率直流電源，可用于高能量的金屬濺射鍍膜，根據實驗需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實現各種材料的鍍膜操作。
金靶材鍍膜磁控濺射技術參數；
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品濺射源調節(jié)距離 | 40-105mm |
真空測量 | 皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
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